授賞のご案内


Richard M. Fulrath 賞



応募要領

1. Richard M. Fulrath 賞の概要

フルラス賞は、米国と日本のセラミック科学・工学分野の技術交流に多大な貢献のあったカリフォルニア大学バークレー校の故フルラス教授の死を悼んで 1978 年から設けられたものです。近年、米国セラミック学会 Northern California Section が中心となり日本のフルラス・岡崎記念会と協力し、候補者の選定、シンポジウムの開催を行ってきましたが、20 年目の節目を機会に米国セラミック学会、日本セラミックス協会、フルラス・岡崎記念会が協力して候補者を選定し、米国セラミック学会の年会で受賞式およびシンポジウムを行うことになりました。本賞は、米国側は、学術部門から 1 名、産業部門から 1 名の計 2 名に、日本側は、学術部門から 1 名、産業部門から 2 名の計 3 名に授与されます。学術分野の受賞者には、副賞として、渡航費 2,000 米ドルが授与されます。
日本側の候補者は下記の要領で公募し、一旦フルラス・岡崎記念会に推薦書を提出していただき、内容確認後、本会から米国の選考委員会にまとめて送付 します。
推薦文は、年齢が 45 才以下の場合は 5 年間有効です。

募集から授賞に至る大まかなスケジュールは概ね下記のようになってお りますが、詳細は都度の案内に従ってください。


・ 公募期間:
・ 毎年 7 月 1 日 ~ 11 月 30 日

・ 授賞者の内定:
・ 翌年の 5 月頃

・ 授賞式および記念講演:
・ 授賞式は翌年の 10 月頃の米国セラミックス学会年会バンケット会場
・ 記念講演は、上記と同じ会場の MS&T のRichard M.Fulrath Award Session

2. 受賞資格

   「学術部門」

1)

セラミックスの科学・工学に関し優れた研究をなし、学術の進歩 と、産業の発展に多大な貢献をした大学および公的研究機関に属する年齢 45 歳(米国での受賞日の前日まで)以下の若手研究者、技術者

2)

過去のあらゆる賞の受賞の有無は問わない

   「産業部門」

1)

セラミック スの科学・技術に関し優れた研究をなし、学術の進歩と、産業の発展に重要な貢献をした企業に属する年齢 45 歳(米国での受賞日の前日まで)以下の若手研究者・技術者

2)

過去のあらゆる賞の受賞の有無は問わない

3. 推薦者


1)

フルラス・岡崎記念会会員

2)

(社)日本セラミックス協会支部長、部会長、理事

4. 推薦書

和文と英文両方の推薦書を作成てください。

フォーマットは下記のボタンをクリックすることでダウンロー ドできます。

開いたファイルを保存して使用してください。


・和文:     

・英文:     

推薦文は、年齢が 45 才に達するまでは、5 年間有効です。
その間、内容の変更は可能です。

5. 推薦応募受付期間


毎年 7 月 1 日 ~ 11 月 30 日

6. 応募書類送付先・ 連絡先

フルラス・岡崎記念会事務局
〒601-8011 京都市南区東九条南山王町 36
(株)ティー・アイ・シィー編集部 内
Tel. 075-693-1533   Fax. 075-693-1534
E-mail   fulrath@tic-mi.com

過去の受賞者

1. 日本人受賞者一覧

以下のボタンをクリックすると一覧が別ウィンドウで表示されます。


2. 米国人受賞者を含む一覧

以下のボタンをクリックすると一覧が別ウィンドウで表示されます。



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岡崎 清 賞



応募要領


1. 岡崎 清 賞の概要

フルラス・岡崎記念会は、「岡崎清賞」を創設し、2006 年から授賞を始めました。
岡崎清賞は、我が国の電子セラミックスエ学分野の発展に大きく貢献のあつた故岡崎清教授(元防衛大学校教授/元湘南工科大学教授)の意志を着実に継承し、更に発展させていくため、電子セラミックスの研究、開発、生産の中核を担っている研究者、技術者で、研究・開発・生産に特に優れた成果をなしえた個人、又はグループを表彰します。
表彰は毎年 3 件以内、副賞を添えて顕彰します。
選考は、学識経験者および産業界で活躍した経験者からなる岡崎清賞選考委員会で行われます。発表論文数などのみでなく、現場で新製品を育て上げるための独創的なアイデア、技術なども重要な評価の対象としています。

受賞者の決定は翌年の 3 月。総会(6 月)と同時開催される授賞式で授与されます。

2. 受賞資格


1)

電子セラッミクス分野の研究、技術開発、製造・生産に優れた業績を上げた個人、又はグループ。グループは原則として 5 名以内とします。

2) 年齢制限はありません。

3) 過去のあらゆる賞の受賞の有無は問いません。

3. 推薦者


1)

フルラス・岡崎記念会会員、又は自薦いずれでも結構です。

4. 推薦書

定める書式に従つて推薦書を作成 してください。

フォーマットは下記からダウンロー ドできます。

開いたファイルを保存して使用してください。


・フォーマット:     

5. 推薦応募受付期間


毎年 7 月 1 日 ~ 11 月 30 日

6. 応募書類送付先・ 連絡先


フルラス・岡崎記念会事務局
〒601-8011 京都市南区東九条南山王町 36
(株)ティー・アイ・シィー編集部 内
Tel. 075-693-1533   Fax. 075-693-1534
E-mail   fulrath@tic-mi.com

過去の受賞者


受賞回
(受賞年)
氏名所属研究テーマ
第 1 回
(2006)
大里 齊名古屋工業大学電子セラミックスの結晶構造に基づく研究開発
大西宏司
河波 利夫
西岡 憲一
乾 一代
竹内 美由紀
(株)ニッカトー 高強度・高靱性ジルコニア微少球ビ-ズの開発
縄田 輝彦
西島 栄一
柳 裕之
大島 宣安昭
乾 洋治
(株)トクヤマCZ 方による次世代リソグラフィ-用フッ化カルシウム大型単結晶製造技術の確立
荒井 智次
長沢 寿久
坪田 一成
(株)NEC トーキン新構造デカップリングデバイス「プロ-ドライザ^R」の開発・製品化
第 2 回
(2007)
平塚 信之埼玉大学組成および構造制御によるフェライトの高性能化に関する研究
Xiang Ming
  CHEN
Institute of Materials Physics & Engineering Zhejiang University
日高 一久
安倍 一允
池田 美昭
式田 尚志
大釜 信治
堺化学工業(株)水熱合成法による微細・高結晶性チタン酸バリウムの開発と工業化
落合 博
岩崎 隆
康井 義成
(株)ラボマイクログラビアを用いた薄膜コーティング技術
第 3 回
(2008)
羽田 肇(独)物質・材料研究機構エレクトロセラミックスの欠陥構造に関する研究
藤川 信儀京セラ(株)Ni 内部電極積層コンデンサの開発
成田 祐喜
大塚 研一
小笠原 修悦
石川 博之
JFE ミネラル(株)高容量積層セラミックコンデンサ内部電極用ニッケル超微粉の開発
雨宮 千夏
萬久 俊彦
栗原 淳子
屋ヶ田 弘志
水田 政智
オートモーティブエナジーサプライ(株)自動車用マンガン系ラミネート型リチウムイオン電池の開発と実用化
第 4 回
(2009)
高橋 尚武
大西 康晴
佐々木 康弘
森 右京
土岐 望
日本電気(株)携帯電話向け薄型圧電セラミックスピーカーの開発
酒井 武信トヨタ自動車圧電材料の信頼性に関する研究
鈴木 久男静岡大学強誘電体薄膜のケミカルプロセッシング
第 5 回
(2010)
河 朝雄イノステック(株)チタン酸ジルコン酸鉛ゾルゲル溶液の作成とその応用
篠崎 和夫東京工業大学 酸化物配向薄膜の配向制御とその応用
佐藤 茂樹TDK(株)積層セラミックスコンデンサの希土類添加による容量温度特性の改善
林 宏一
郡田 宗彦
(株)村田製作所 大変位・高発生力積層圧電アクチュエ-タの開発・実用化
第 6 回
(2011)
小川 宏隆名城大学高周波デバイス用高 Q マイクロ波誘電体セラミックスに関する研究
董 敦灼
浜口 佑樹
舞田 雄一
山森 春男
本多電子(株)BNT 系無鉛圧電セラミックスの実用化と課題
宮本 正道
岸川 勉
遠藤 孝志
村井 匠
日本電工(株)大容量二次電池用 LiMn204 の開発と実用化
第 7 回
(2012)
小林 健吉郎静岡大学クラスタードーピングによる p 型 ZnO 薄膜の作成
加藤 好志(株)アプライド・マイクロシステム圧電アクチュエータのニードル駆動による微少液滴塗布システムの実用化と課題
第 8 回
(2013)
越前谷 一彦
松下 三芳
舘 義仁
岩﨑 洋介
JFE ミネラル(株)医療用大型 PMN-PT 圧電単結晶および育成技術の開発
鷹木 洋(株)村田製作所積層セラミックコンデンサ用誘電体材料の開発と工業化
小野 信一
永島 和郎
岩崎 峰人
多久島 裕孝
前川 雅之
昭栄化学工業(株)噴霧熱分解法による単結晶 AgPd 合金粉末及び Ni 粉末の開発、量産

氏名欄に複数名記載の場合はグループ受賞となります。

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岡崎 清 功労賞



1. 岡崎 清 功労賞の概要

電子セラミックスの学界ならびに産業界において、この分野の発展やフルラス・岡崎記念会の運営、発展に大きな貢献があつたと認められた個人に授与される。
表彰対象は 毎年 3 名以内とする。
推薦および選考は、フルラス・岡崎記念会役員より構成される岡崎清功労賞選考委員会で行われる。

受賞者の決定は翌年の3月。総会(6 月)と同時開催される授賞式で授与されます。

過去の受賞者


受賞回受賞年受賞者当時の所属
第 1 回2005 年一ノ瀬 昇早稲田大学
坂野 久夫元日本特殊陶業
浅田 榮一昭栄化学工業
第 2 回2006 年大野 留治昭栄化学工業
脇野 喜久雄元村田製作所
第 3 回2007 年米澤 正智NEC トーキン
山岡 信立太陽誘電
平井 敏雄元 JFCC
第 4 回2008 年桑野 幸徳元三洋電機
坂部 行雄村田製作所
新原 晧一長岡科学技術大学
第 5 回2009 年平野 眞一(独)大学評価・学位授与機構長
高橋 貞行(株)アプライド・マイクロシステム
松岡 道雄元松下電器産業
第 6 回2010 年倉元 信行(特別功労賞)元トクヤマ
岡本 明元 TDK
坂田 好一郎東京理科大
吉村 昌弘元東工大
第 7 回2011 年内海 和明オートモーティブエナジーサプライ(株)
小川 敏夫静岡理工科大学
山本 孝防衛大学校
第 8 回2012 年五十嵐 秀二元防衛大学校
山本 博孝元 TDK (株)
山下 洋八元(株)東芝
第 9 回2013 年米屋 勝利元横浜国立大学
平野 均元(株)東芝
向江 和郎元富士電機(株)


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